多晶硅栅极
Investigation of Poly Si/ SiO 2 Interface in Polysilicon Gate MOS Structure
硅栅MOS结构Poly-Si/SiO2界面研究
来源:互联网摘选other silicide layers (50. 4-50. 6) are on the tops of the source, drain and polysilicon gate.
其它硅化物层(50.4-50.6)处于源极、漏极和多晶硅栅极的顶部。
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